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设备信息
设备名录
PLD沉积腔和控制系统
作者:
发布时间:2016-09-26
点击量:
设备编号
2015260700
仪器负责人
李山东
中文名称
PLD沉积腔和控制系统
英文名称
Pulse Laser Deposition System
规格型号
PLD-400型
产地国别
中国
仪器安放地址
amjs澳金沙门线路首页中心校区西院科技馆四层401
主要科学领域
薄膜生长
主要技术指标
真空度10-6Pa；样品加热最高温度800摄氏度；真空退火炉最高温度700摄氏度；内置四个靶材托可进行交替溅射；内置样品挡板可进行梯度溅射。
主要功能
与激光器结合生长薄膜。
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